苏州清芯卓-晶圆清洗设备，单片清洗机

显影:

适合各式凸块、RDL 及封装制程之光阻显影，  制程8寸、  12寸晶圆显影液 Spray、     Puddle 、Spin 工艺

清洗:

前道制程，封装制程， 凸块制程等, 于镀 膜前、  上光阻前、  蚀刻后、  离子子植入后、 CMP后及 flux Clean等晶圆清洗制程

蚀刻:

UBM、RDL 、BGBM及各种金属层的刻蚀，去光阻 各式晶圆之厚膜光阻清洗及 metal lift off  制程光阻去除

光罩清洗：

掩膜版的清洗， 光阻去除

Footprint : 1800 (W) x 1800 (D) x 2000(H) mm